%A 陈东, 刘诗斌, 梁晋涛 %T TMAH硅湿法刻蚀剂中异丙醇与氧化剂的协同作用 %0 Journal Article %D 2014 %J 广西师范大学学报(自然科学版) %R %P 55-59 %V 32 %N 2 %U {http://gxsf.magtech.com.cn/CN/abstract/article_544.shtml} %8 2014-06-25 %X 四甲基氢氧化铵(TMAH)是一种在微机电系统加工中常用的硅湿法刻蚀剂。在对含有铝结构表面的硅器件进行湿法刻蚀时,需要在TMAH溶液中添加一定量的硅酸和氧化剂,以保护器件表面的金属铝,但这会降低硅表面的光洁度。本文在含硅酸的TMAH溶液中同时添加过硫酸铵和异丙醇2种物质,研究其对TMAH刻蚀作用的影响。研究结果表明,2种物质的协同作用能够显著提高硅刻蚀表面的光洁度。